マイクロ・ナノエレクトロニクス材料

成膜グレードシラン化合物

ゾル-ゲル法がセラミックおよびガラス膜の生成に有利な理由はいくつかあります1-4。その一つは、特殊な材料、触媒、または高価な成膜装置を必要としない単純な製法であることです。さらに、ゾル-ゲル反応は極端な反応条件を必要とせず、この方法で調製される材料の特性は、有機的に修飾されたさまざまな前駆体を利用することで容易に調整することが可能です2,3

アルドリッチの成膜グレード(Deposition Grade)シラン化合物には、ゾル-ゲル法で一般的に使用されるアルコキシシランとその前駆体であるクロロシランがあります。反応過程におけるアルコキシシランの転換は、図1の概略図のように、一連の連続した加水分解、縮合、および熱処理段階を経て進行します。

ゾルゲル法を用いた製膜法の概略

図1 ゾルゲル法を用いた製膜法の概略

成膜グレードシラン化合物の用途には、次のようなものがあります。

  • ガラスやその他のさまざまな表面への膜コーティング1,4
  • ポリエステル、Nafion®、Surlyn®などの高分子の構造強化1
  • 電子機器や電気化学素子の気密封止5
  • その他に、Si-Oを含む高分子鎖が求められる用途3,4

成膜グレードシラン化合物はNMRやGC、GC-MSなどで純度測定を行っております。各製品の試験成績書をご参考ください。

     

References

  1. S.K.Young, Material Matters 2006, 1(3), 8.
  2. F. Caruso, Colloids and Colloid Assemblies: Synthesis, Modification, Organization, and Utilization of Colloid Particles, 2004, John Wiley & Sons, New York.
  3. Sol-Gel Technology for Thin Films, Fibers, Preforms, Electronics, and Specialty Shapes, L.C. Klein, Ed., 1988, Noyes Publ., Park Ridge, NJ.
  4. A.C.Pierre, Introduction to Sol-Gel Processing, 2002 Kulwer, Academic Publishers, Boston, Dodrecht, London.
  5. A. B. Wojcik, L. C. Klein, J. Sol-Gel Science and Technology 1995, 4, 57.
Redi-Driのご案内