マイクロ・ナノエレクトロニクス材料 成膜グレードシラン化合物

ゾル-ゲル法がセラミックおよびガラス膜の生成に有利な理由はいくつかあります^{1- 4}。その一つは、特殊な材料、触媒、または高価な成膜装置を必要としない単純な製法であることです。さらに、ゾル-ゲル反応は極端な反応条件を必要とせず、この方法で調製される材料の特性は、有機的に修飾されたさまざまな前駆体を利用することで容易に調整することが可能です^2,3。

弊社の成膜グレード（Deposition Grade）シラン化合物には、ゾル-ゲル法で一般的に使用されるアルコキシシランとその前駆体であるクロロシランがあります。反応過程におけるアルコキシシランの転換は、図1の概略図のように、一連の連続した加水分解、縮合、および熱処理段階を経て進行します。

図1 ゾルゲル法を用いた製膜法の概略

成膜グレードシラン化合物の用途には、次のようなものがあります。

• ガラスやその他のさまざまな表面への膜コーティング^1,4
• ポリエステル、Nafion^®、Surlyn^®などの高分子の構造強化¹
• 電子機器や電気化学素子の気密封止⁵
• その他に、Si-Oを含む高分子鎖が求められる用途^3,4

弊社成膜グレードシラン化合物はNMRやGC、GC-MSなどで純度測定を行い、さらに微量不純物金属量も測定しております。各製品の試験成績書をご参考ください。

成膜グレードシラン化合物一覧

製品番号	製品名	構造式
679267	Allytrimethoxysilane
679224	Butyltrichlorosilane
679356	[3-(Diethylamino)propyl]trimethoxysilane
679216	Ethyltrichlorosilane
679364	Isobutyl(trimethoxy)silane
679208	Methyltrichlorosilane
679321	n -Propyltriethoxysilane
679194	Pentyltrichlorosilane
679259	Tetramethyl orthosilicate
679240	Tetrapropyl orthosilicate
679305	Triethoxy(octyl)silane
679291	Triethoxyphenylsilane
679275	Triethoxyvinylsilane
679232	Trimethoxymethylsilane
679313	Trimethoxyphenylsilane

References

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