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Precursores para depósito de vapor y de disolución

El depósito de disolución y el depósito de vapor son dos vías de síntesis utilizadas para la formación de películas finas y revestimientos de precisión avanzados.

El depósito de disolución y el depósito de vapor son dos vías de síntesis utilizadas para la formación de películas finas y revestimientos de precisión avanzados. El depósito de disolución, también conocido como procesamiento sol-gel, puede utilizarse para preparar una amplia gama de compuestos inorgánicos e híbridos a partir de una disolución de precursores. Al generar los nudos de las suspensiones coloidales conocidas como «sol»·, pueden convertirse en un gel y, posteriormente, en un sólido. El depósito de vapor abarca una serie de técnicas mediante las cuales los precursores o materiales diana se convierten y emplean en la fase gaseosa para formar películas artificiales en sustratos. Nuestro compendio de productos para técnicas de depósito permite la adaptación precisa de las propiedades de la película fina y del recubrimiento. Seleccione entre nuestra amplia gama de precursores de depósito de película fiables y de calidad según el método y la aplicación que elija.


Productos



Precursores de depósito de disolución

Ofrecemos una amplia gama de precursores de depósito de disoluciones específicas con 55 metales básicos diferentes en acetato, acetilacetonato, terc-butóxido, isopropóxido, fenóxido, etóxido, tri-sec-butóxido, metóxido, 2-etilhexanoato, entre otras funcionalidades. Estos productos se ofrecen en varias purezas del 90 % al 99,999 %, concentraciones variadas en disolventes seleccionados y formas hidratadas específicas para permitir su química distintiva.

Precursores de depósito químico de vapor (CVD)/precursores de depósito de capa atómica (ALD)

Suministramos precursores organometálicos volátiles de gran calidad, precursores metálicos y precursores metalorgánicos para CVD/ALD. Para mayor comodidad y seguridad, estos precursores vienen preenvasados en cilindros de acero para utilizarse con una variedad de sistemas de depósito.

Materiales para depósito físico de vapor

En el depósito físico de vapor (PVD) se utiliza material vaporizado de una fuente sólida para depositar películas delgadas en un sustrato. Ofrecemos objetivos de pulverización de gran pureza, gránulos, láminas metálicas y virutas de evaporación para su uso en diversas aplicaciones de PVD, como dispositivos microelectrónicos, electrodos de batería, barreras de difusión y revestimientos ópticos.