901624

Sigma-Aldrich

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE) 6:1

别名:
BHF, 缓冲HF
NACRES:
NA.23

形式

liquid

一般描述

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)等缓冲液的混合物。浓缩的 HF 蚀刻二氧化硅的速度太快,不能很好地进行工艺控制,同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。

应用

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6:1可用于栅极光刻(gate photolithography)的AlGaN / GaN基高电子迁移率晶体管的氧化物去除。它可用于缓冲氧化物蚀刻剂法,制造微型生物芯片。

象形图

CorrosionSkull and crossbones

警示用语:

Danger

hazcat

Acute Tox. 1 Dermal - Acute Tox. 2 Inhalation - Acute Tox. 2 Oral - Eye Dam. 1 - Skin Corr. 1A

storage_class_code

6.1B - Non-combustible, acute toxic Cat. 1 and 2 / very toxic hazardous materials

WGK Germany

WGK 2

闪点(F)

Not applicable

闪点(C)

Not applicable

分析证书

原产地证书 (CofO)

Effect of passivation on AlGaN/GaN HEMT device performance
2000 IEEE international symposium on compound semiconductors, 357-363 (2000)
Fabrication of a new micro bio chip and flow cell cytometry system using Bio-MEMS technology
Byun I, et al.
Microelectronics Journal, 39(5), 717-722 (2008)
Surface cleaning and preparation in AlGaN/GaN-based HEMT processing as assessed by X-ray photoelectron spectroscopy
Gonzalez-Posada F, et al.
Applied Surface Science, 253(14), 6185-6190 (2007)

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