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液相・気相成長用前駆体

液相および気相成長は、薄膜やコーティング形成に用いられる2つの合成経路です。

高度で精密な薄膜やコーティングの作製には、液相および気相成長と呼ばれる2つの合成法が用いられます。液相成長法は、ゾル-ゲル法とも呼ばれ、前駆体溶液からさまざまな無機およびハイブリッド複合材料を調製することができます。「ゾル」と呼ばれるコロイド状懸濁液を生成することで、ゲルに変換し、続いて固体に変換することが可能です。気相成長法は、前駆体やターゲット材料を気相中で変換して使用して、基板上に薄膜を形成する多数の技術を網羅しています。我々の薄膜作製用製品群を用いることで、薄膜やコーティングの特性を精密に調整することができます。さまざまな方法と用途に応じた、信頼性の高い高品質の成膜用前駆体製品を多数ご用意しています。


製品

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液相成長用前駆体

酢酸塩、アセチルアセトナート、tert-ブトキシド、イソプロポキシド、フェノキシド、エトキシド、トリ-sec-ブトキシド、メトキシド、2-エチルヘキサノエートなど、55の異なる金属を含む、多様な気相成長用前駆体を提供しています。これら製品は、90%~99.999%のさまざまな純度、溶媒、濃度で販売されています。

気相成長法(CVD、ALD)用前駆体

CVD(chemical vapor deposition)やALD(atomic layer deposition)用の高品質の揮発性有機金属前駆体を提供しています。これら前駆体は、利便性と安全性を考慮して、さまざまな蒸着システムで使用可能なスチールシリンダーにて提供されている製品もあります。

物理気相成長用前駆体

物理気相成長(または物理蒸着、PVD:physical vapor deposition)は、固相原料から高温真空またはガスプラズマ(スパッタリング)によって材料を気化した物質を利用して、基板上で凝縮することにより薄膜を生成させる方法です。PVDは、マイクロエレクトロニクスデバイス、相互接続デバイス、一次・二次電池および燃料電池電極、拡散障壁、光学コーティング、導電コーティングおよび表面修飾などの製造を含む多様な用途に用いられており、高純度のスパッタリングターゲット、ペレット、金属箔、蒸発スラグを提供しています。