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液相和气相沉积前体

液相沉积和气相沉积是用于制作先进精密薄膜和涂层的两条合成途径。

化学溶液沉积和化学气相沉积是两种强大的技术,用于形成高质量和精密的薄膜和涂层。溶液沉积,也称为溶胶-凝胶处理,是一种常用的方法,用于从前驱体溶液制备各种无机和杂化复合材料。一种被称为“溶胶”的胶体悬浮液产生、转化为凝胶,随后转变为固体。然而,气相沉积使用许多技术来转换和利用气相的前驱体或目标材料,以在衬底上形成工程薄膜。我们为沉积技术选择的产品使您能够精确地定制薄膜及其涂层性能。根据您选择的方法和应用,探索我们广泛的高质量和可靠的薄膜沉积前驱体化学品。


产品



液相沉积前体

我们提供各种专用溶液沉积前体。它们可用于 55 种不同基本金属以及醋酸、乙酰丙酮、叔丁醇、异丙醇、苯氧化合物、乙氧化物、三叔丁醇、甲氧基和 2-乙基己酸酯,附带各种其他功能。为了满足您的独特化学要求,这些产品具有从 90% 到 99.999% 等各种纯度、精选溶剂配制的各种浓度以及特定的水合形式。

化学气相沉积(CVD)前体/原子层沉积(ALD)前体

我们为 CVD/ALD 应用提供优质挥发性有机金属、金属和金属有机前体。为了保证便捷性和安全性,这些前体都预先装入与各种沉积系统配合使用的钢瓶。

物理气相沉积材料

物理气相沉积(PVD)采用固体起始材料的气化物在衬底上沉积薄膜。我们提供用于各种 PVD 应用的高纯度溅射靶、颗粒、金属箔和蒸发段。应用包括微电子器件、电池电极、扩散屏障和光学涂层。



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