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光子與光學材料

光學元件引導雷射穿過工廠機器孔洞的影像

光子學是一種使用輻射能量(例如可見光或紅外線光束)中的光子而非電子來傳輸資料的技術。與傳統電子技術相比,光子學在資訊與影像處理技術上有許多優點,包括更高的頻寬、更快的反應速度,以及更少的外來電磁場雜訊。非線性光學 (NLO) 過程在光子應用中扮演著重要的角色,因為它能夠改變光的特性,例如當光線通過 NLO 活性介質時,光的頻率、相位、振幅或傳輸特性。 

在我們的光子和光學材料中,我們提供廣泛的染料(雷射、紅外線 (IR)、化學發光、酞菁/卟啉、光變色和熱變色),以及非線性光學 (NLO)、光發光和折射率 (RI) 控制材料。利用我們全面的產品組合,照亮您的光管理和顯示技術研究:​


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有機非線性光學 (NLO) 材料

我們提供多種有機 NLO 材料,包括發色體、中間體、NLO單體和 NLO 聚合物,這些材料具有優異的反應速度、高光學清晰度,以及更好的三階感應度大小。若要展現 NLO 活性,材料必須是非中心對稱的。在聚合物基 NLO 材料中,NLO 發色體可以作為客體 (在主-客體系統中) 納入聚合物基體中,或作為共價接枝到聚合物鏈上的整體元件,甚至共聚到聚合物骨架本身中。我們的共價鍵合 NLO 聚合物可在您的應用中明顯提高 NLO 發色體的穩定性。

波導材料

折射率 (RI) 對於光波導、LCD 顯示器、抗反射塗層和眼科裝置等應用而言至關重要。與無機材料相比,聚合物基的低折射率和高折射率材料更易加工、重量輕且對機械應力不敏感。我們提供全系列以芳香族和溴化芳香族單體為基礎的高折射率聚合物,以及以氟化單體為基礎的低折射率聚合物。

近紅外線染料

我們的近紅外線 (NIR) 發射染料 TokeOni 和 seMpai 是小動物非侵入性深層組織生物成像的理想選擇。與傳統螢光素酶 (Fluc) / D-luciferin 系統中的 D-luciferin 相比,它們能產生峰值為 677 nm 的近紅外發光,可穿透大多數動物組織和身體,靈敏度也高得多。

與 D-luciferin 相比,TokeOni 和 seMpai 具有以下特點:

  • 更高的水溶性
  • 更長的光發射波長
  • 能夠通過血腦屏障
  • 5。2倍的信號增加
  • 高化學穩定性
  • 低毒性

當搭配最佳化的酵素時,以TokeOni為基礎的AkaBLI系統提供高40倍的亮度體外,而體內的亮度則比傳統的 D-luciferin/Fluc 系統高出 100 到 1000 倍,允許對自由移動的動物體內深處的單細胞進行非侵入式可視化,並且在注射一年後仍然有效。


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