Przejdź do zawartości
PL
PL
Produkty
Zastosowania
Usługi
Zasoby
Wsparcie
Chemia analityczna
Hodowla i analiza komórek
Chemia i biochemia
Klinika i diagnostyka
Filtracja
Bardziej ekologiczne produkty alternatywne
Mikrobiologia przemysłowa
Automatyzacja laboratorium
Sprzęt laboratoryjny
Materiałoznawstwo
Biologia molekularna i genomika funkcjonalna
Rozwój i produkcja mAbs
Rozwój i produkcja mRNA
Produkcja farmaceutyczna i biofarmaceutyczna
Biologia białek
Oczyszczanie wody
Chemia analityczna
Hodowla i analiza komórek
Chemia i synteza
Klinika i diagnostyka
Testy środowiskowe i konopi indyjskich
Testowanie i produkcja żywności i napojów
Genomika
Nauka i inżynieria materiałowa
Testy mikrobiologiczne
Rozwój i produkcja mAbs
Rozwój i produkcja mRNA
Produkcja farmaceutyczna i biofarmaceutyczna
Biologia białek
Obszary badań i chorób
Oczyszczanie wody
Produkcja kontraktowa
Testowanie umów
Produkty niestandardowe
Rozwiązania cyfrowe dla nauk przyrodniczych
Rozwój i produkcja IVD
Usługi produktowe
Wsparcie
Dokumenty
Centrum nauki
Nowa
Obsługa klienta
Kontakt
Get Site Smart
FAQ
Jakość i przepisy
Kalkulatory i aplikacje
Webinaria
Strona główna
Wyniki wyszukiwania
Effects of oxygen content on the optical properties of tantalum oxide films deposited by ion-beam sputtering.
Effects of oxygen content on the optical properties of tantalum oxide films deposited by ion-beam sputtering.
Applied optics (1985-02-15)
H Demiryont, J R Sites, K Geib
PMID
18216975
MATERIAŁY
Numer produktu
Marka
Opis produktu
303518
Sigma-Aldrich
Tantalum(V) oxide, 99% trace metals basis
Cennik